Рисунок 6.1. График зависимости Uпр=f(P) при Ib = 0.5A
Рисунок 6.2. График зависимости Uпр=f(P) при Ib = 1A
Рисунок 6.3. График зависимости Uпр=f(P)ы
7. ВЫВОДЫ
Таким образом, как показали расчеты, проведенные с использованием приведенной выше модели - при увеличении энергии обратного потока ионов, образующихся в ускоряющем промежутке плазменного источника электронов в результате ионизации газа электронным пучком, имеет место снижение концентрации нейтралов. В свою очередь, энергия ионов увеличивается по мере роста тока электронного пучка. Результаты модели находятся в хорошем согласии с зависимостями, полученными экспериментальным путем. Локальный нагрев газа электронным пучком ведёт к увеличению электрической прочности ускоряющего промежутка плазменного источника электронов в присутствии пучка в ускоряющем промежутке, в форвакуумном диапазоне давлений.
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ
1. Левитский С. М. “Сборник задач и расчётов по физической электронике”– Киев, изд-во Киевского университета, 1960 – с. 178
2. Гапонов В. И. “Электроника”, ч.1 – М.: Физматгиз, 1960
3. Крейндель Ю. Е. “Плазменные источники электронов”, 1977
ПРИЛОЖЕНИЕ 1
