Оборудование для ориентации полупроводниковых пластин (стр. 5 из 5)

Широкое развитие ЭВМ и компьютерной индустрии в целом предопределяет перспективу развития оборудования для ориентации полупроводниковых пластин. Создание новых установок, в управлении которых участвуют мощные компьютерные комплексы и задействованы новые методы ориентации монокристаллов, (таких как германская ЭУОС-3) позволят значительно увеличить скорость и точность ориентации слитков (пластин). Также развитие производства электроники и увеличение спроса на этот товар должно сказаться на совершенствовании производства полупроводниковых пластин в целом.

Приложение 1

Приложение 2

Приложение 3

Список использованной литературы

1. Концевой Ю.А., Кудин В.Д. «Методы контроля технологии производства полупроводниковых приборов», 1973 г.

2. Николаев И.М. «Оборудование и технология производства полупроводниковых приборов», 1977 г.

3. Масленников П.Н., Лаврентьев К.А., Гингис А.Д. «Оборудование полупроводникового производства», 1984 г.

4. Бочкин О.И. «Механическая обработка полупроводниковых материалов», 1974 г.

5. Гаврилов Р.А., Скворцов А.М., «Технология производства полупроводниковых приборов», 1968 г.

6. Моряков О.С. «Устройство и наладка оборудования полупроводникового производства», 1976 г.