Изготовление кристаллов (стр. 1 из 4)
КРИСТАЛЬНОЕ ПРОИЗВОДСТВО
ОТЧЕТ ПО ПРОВЕДЕННЫМ ЭКСКУРСИЯМ
В ходе практики была проведена экскурсия в цехе кристального производства, в ходе которой ознакомились со следующими участками:
Участок чистой химии;
Участок нанесения фоторезиста;
Участок фотокопии;
Участок технохимии;
Участок плазмохимического травления;
Участок диффузии;
Участок ионного легирования;
Участок нанесения диэлектрических пленок;
Участок напыления;
Участок контроля электрофизических параметров;
Участок испытаний.
ВВОДНАЯ ЧАСТЬ
Микросхема 564ИЕ10
Микросхема содержит два отдельных четырехразрядных двоичных счетчика. Триггеры каждого из них устанавливаются в исходное состояние (нулевое) при подаче уровня 1 на вход R. Триггеры счетчиков 564ИЕ10 переключаются в момент спада импульсов положительной полярности на входе СР при уровне 0 на входе CN. Возможна подача импульсов отрицательной полярности на вход CN при уровне 1 на входе СР. Таким образом, входы CP и CN объединены логической функцией И. При соединении микросхем 564ИЕ10 в многоразрядный счетчик с последовательным переносом выводы 8 подключаются к входам СР следующих, а на входы CN подают уровень 0.
На счетчике 564ИЕ10 можно собрать делитель частоты с коэффициентом деления от 2 до 15.
Рис. 1. Графическое изображение МС 564ЕИ10 Рис. 2. Временная диаграмма работы счетчика 564ИЕ10
МАРШРУТ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КРИСТАЛЛА 564ИЕ10
1. Формирование партии пластин.
2. Гидромеханическая отмывка пластин.
3. Химическая обработка.
Смесь Каро (H2SO4+H2O2), перикисьно-амиачная смесь. Оборудование—
линия “Лада 125”.
4. Окисление 1.
Установки СДОМ, АДС. Температура 1000ОС. О2+пар.
5. Фотолитография.
Формирование области р-кармана.
5.1. Нанесение фоторезиста.
Фоторезист — ФП383.
Установка ХБС.
5.2. Совмещение экспонирования пластин ЭМ — 576А.
5.3. Проявление фоторезиста.
Проявитель — едкий калий.
5.4. Дубление фоторезиста.
Установки “Лада”.
5.5. Травление окисной пленки.
Буферный травитель.
5.6. Контроль.
6. Ионное легирование.
Бор 1. “Карман”. Установка “Лада 30”.
7. Снятие фоторезиста.
7.1. Плазма. Установка “08 ПХО 100Т-001”
7.2. Смесь Каро.
8. Химическая обработка.
9. Разгонка бора. “Карман”.
Температура 1200ОС. О2+азот.
10. Вторая фотолитография.
Формирование областей сток- исток р-канальных транзисторов и р+-охраны.
11. Ионное легирование.
Бор 2 . Сток- исток. Установка “Везувий-3М”.
12. Снятие фоторезиста.
Плазма и смесь Каро.
13. Химическая обработка.
14. Разгонка бора. Сток- исток.
Температура 1000ОС, О2+пар.
15. Третья фотолитография.
Формирование областей сток- истока n-канальных транзисторов и n+-охраны.
16. Химическая обработка.
17. Загонка фосфора (диффузионный метод).
Температура 900ОС. Диффузант — POCl3.
18. Снятие фосфорселикатного стекла.
HF : H2O =1 :10.
19. Разгонка фосфора.
Температура 1000ОС. О2+пар.
20. 4Я фотолитография.
Вскрытие областей под затвор и контактные окна.
21. Окисление 2 — подзатворный диэлектрик.
Температура 1000ОС. О2+HCl.
22. Стабилизация фосфора.
Температура 900ОС. Диффузант — POCl3.
23. Подлегирование.
24. Отжиг подзатворного диэлектрика.
25. 5Я фотолитография.
Вскрытие контактных окон.
26. Химическая обработка.
27. Напыление Al+Si.
Установка “Магна 2М”.
28. 6Я фотолитография.
Формирование алюминиевой разводки.
29. Вжигание алюминия.
Температура 475ОС в азоте.
30. Нанесение защитного окисла.
Температура 400ОС. SiH4+O2.
Установка “Аксин”.
31. 7Я фотолитография.
Вскрытие контактных площадок.
32. 8Я фотолитография.
Защита пластин фоторезистом.
33. Контроль ВАХ (пробивное напряжение, пороговое напряжение, прямое напряжение и др.).
34. Контроль электрических параметров.
35. Контроль внешнего вида.
ОПЕРАЦИЯ СПЕЦОКИСЛЕНИЕ
Оборудование.
система диффузионная (см табл. 1)
стол монтажный СМ-4 А2МО 238 001 ТУ
реактор кварцевый Æ07-0397
реактор кварцевый Æ07-0541
крючок кварцевый Æ09-1067
лодочка кварцевая Æ09-1216
подставка Æ09-1215
стаканчик СВ24/70 ГОСТ 25 336-82
пинцет ПС 160х3.0 ТУ 64-1-37-78
пинцет Æ09-1114
часы электрические вторичные показывающие ВЧС2-М2ПВ-400-323К ТУ 25-67-1503-82
пластина кремния 7590592 10300 00022
пластина кремния спутник 7590592 10300 00022
водород хлористый сжиженный марки Э ТУ 6-01-4689387-42-90
спирт этиловый ректификованный технический марки “Экстра” ГОСТ 18300-87
кислород СТП ТВО 054 003-89
азот СТП ТВО 054 003-89
напальчники типа II вида Б№4 ТУ 38.106567-88
салфетка из мадаполама (350х253) мм 7590592 10301 00043
салфетка из батиста (150х150) мм 7590592 10301 00045
пленка полиэтиленовая марки На, полотно, 0,040х1400, I сорт ГОСТ 10354-82
Подготовка рабочего места и организация трудового процесса.
1.1 Подготовку рабочего места и организацию трудового процесса проводить в соответствии с требованиями табл. 1.
1.2 Технологическую операцию осуществлять с соблюдением требований
ТВО 045 954 ИОТ, 17.25351.00003 ИОТ, ТВО 045 829 ИОТ, ТВО 045 982 ИОТ.
1.3 Соблюдать требования производственной гигиены по СТП 17-001-90.
1.4 Параметры микроклимата должны соответствовать СТП 17-001-90:
(1000,10000; 22±2; 50±10).
1.5 Время межоперационного хранения пластин должно соответствовать требованиям СТП 17-097-88.
1.6 Проверить наличие вытяжной вентиляции на системе диффузионной, в специальном шкафу для хранения баллона перед началом работы с хлористым водородом. Производить работу с хлористым водородом при выключенной вентиляции запрещается. При отключении вентиляции немедленно закрыть вентиль на баллоне с хлористым водородом.
1.7 Продуть кварцевый реактор, оснастку хлористым водородом с расходом(10-15) л/час не менее 30 минут:
1) вначале первой смены;
2) после смены оснастки, трубы;
3) замены баллона с хлористым водородом;
4) если время между процессами превышает 24 часа, с последующей продувкой азотом не менее 10 минут с расходом согласно таблице 2.
1.7.1 Перед включением хлористого водорода продуть линию подачи магистральным азотом не менее 10 минут с расходом согласно таблице 2.
1.7.1.1 Включить подачу азота, регулируя расход натекателем на ротаметре.
1.7.1.2 Открыть вентиль подачи азота на линию хлористого водорода (вентиль с маркировкой “N2”).
1.7.1.3 Открыть вентиль с маркировкой, установить расход (10-15) л/час натекателем на ротаметре. Регулировать давление в магистрали при необходимости редуктором низкого давления .
1.7.1.4 Выключить продувку азотом, перекрыть вентиль с маркировкой “N2”.
1.7.2 Выставить необходимый расход кислорода согласно табл. 2.
1.7.3 Открыть в вытяжном шкафу вентиль на баллоне с хлористым водородом поворотом вентиля против часовой стрелки.
1.7.4 Подать хлористый водород в систему, повернуть вентиль редуктора по часовой стрелке.
1.7.5 Проверить расход по ротаметру для подачи хлористого водорода в реактор.
1.7.6 Перекрыть вентиль на баллоне с хлористым водородом поворотом вентиля по часовой стрелке, если расход хлористого водорода выходит за допустимые пределы и повторить переходы п.п. 7.1-7.1.4.
1.7.7 Если не устанавливается необходимый расход хлористого водорода при повторном включении п.п. 7.3-7.5, закрыть вентиль на баллоне, продуть систему азотом и сообщить об этом технологу, мастеру или начальному участка. Категорически запрещается во время работы с хлористым водородом производить регулировку давления в линии с хлористым водородом.
1.8 Менять кварцевые реакторы при отрицательных результатах по напряжению отсечки, не реже одного раза в квартал.
1.9 Проводить контрольный процесс, выполняя требования технологической инструкции согласно табл. 1, после смены баллона с хлористым водородом, после смены оснастки реактора и перед каждым процессом, если время между процессами превышает 24 часа.
1.10 Проводить процесс без использования экранных пластин.
1.11 Проводить оценку контрольного процесса по напряжению отсечки согласно вольт-емкостных характеристик по ТВО 336 568 ТК, 17.60303.00002.
В случае отклонения от нормы напряжения отсечки, указанный в таблице 2, продуть реактор, оснастку хлористым водородом, провести повторно контрольный процесс, а при отрицательных результатах сменить реактор, оснастку.
1.12 Фильтры для очистки хлористого водорода заменять ежемесячно с отметкой о сроке замены и росписью наладчика в журнале.
Технологический процесс.
2.1 Провести технологический процесс, выполняя переходы технологических инструкций, в соответствии с требованиями таблицы режима соответствующего процесса. Во время процесса следить за расходом хлористого водорода, кислорода.
2.2 По окончании технологического процесса:
1) перекрыть вентиль на баллоне с хлористым водородом поворотом вентиля по часовой стрелке.
2) переключить вентиль на редукторе поворотом против часовой стрелки.
3) продуть систему азотом, выполняя переходы п.п. 6.1.
Табл. 1.
| Наименование оборудования | Обозначение | Обозначение документа |
| Система диффузионная многотрубчатая СДОМ 3Л00 | ДЕМ1 055 009 | 17.25001.00006 |
| Система автоматизированная диффузионная АДС6-100 | ДЕМ1 055 001 | 17.25001.00042 |
ОПЕРАЦИЯ УДАЛЕНИЕ ФОТОРЕЗИСТА В СМЕСИ КАРО
Оборудование.
установка химической обработки ЩЦМЗ 240 212
нагреватель ультрачистых сред ЩЦМЗ 031 173
кассета Æ07-0518
тара межоперационная ЩИТ - 725
пинцет Æ09-1114
держатель Æ03-0767
стекло 093-2, КЛ.2, штабик 50 ОСТ 11 110735 002-73
нарукавники полиэтиленовые ТУ 95 7037-73
термометр жидкостной стеклянный тип А ГОСТ 28 498-90
пластина со структурами 17.10201.00024
водорода перекись 17.10201.00022